Влияние модифицирования поверхности InP композициями оксидов (V2O5+PbO) и (NiO+PbO) разного состава на процесс термооксидирования полупроводника и характеристики формируемых оксидных пленок

Влияние модифицирования поверхности InP композициями оксидов (V2O5+PbO) и (NiO+PbO) разного состава на процесс термооксидирования полупроводника и характеристики формируемых оксидных пленок

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Известия высших учебных заведений. Физика Т. 57, № 12. С. 68-72
Корпоративные авторы: Томский государственный университет Химический факультет Научные подразделения ХФ, Томский государственный университет Химический факультет Кафедра неорганической химии
Другие авторы: Миттова, Ирина Яковлевна, Заболотская, Анастасия Владимировна, Самсонов, Алексей Алексеевич, Сладкопевцев, Борис Владимирович, Третьяков, Никита Николаевич, Томина, Елена Викторовна, Козик, Владимир Васильевич 1947-2021
Формат: Статья в журнале
Язык:Russian
Предметы:
фосфид индия
оксид ванадия
магнетронное распыление
оксидирование
статьи в журналах
Online-ссылка:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000501782
Перейти в каталог НБ ТГУ

Internet

http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000501782
Перейти в каталог НБ ТГУ

Похожие документы