Энергетическое воздействие на подложку в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN

Получены зависимости плотности потока энергии на подложку и удельной энергии, сообщаемой покрытию, от коэффициента заполнения импульсов разрядного тока в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN. Показано, что при уменьшении коэффициента заполнения импульсов разрядного тока с 40 до...

Full description

Bibliographic Details

Published in:	Известия высших учебных заведений. Физика Т. 65, № 11. С. 31-37
Other Authors:	Гренадеров, Александр Сергеевич, Захаров, Александр Николаевич, Оскирко, Владимир Олегович, Сиделев, Дмитрий Владимирович, Оскомов, Константин Владимирович, Соловьев, Андрей Александрович
Format:	Article
Language:	Russian
Subjects:	дуальное магнетронное распыление потоки энергии экспериментальные исследования покрытия статьи в журналах
Online Access:	http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000925011