Энергетическое воздействие на подложку в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN

Получены зависимости плотности потока энергии на подложку и удельной энергии, сообщаемой покрытию, от коэффициента заполнения импульсов разрядного тока в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN. Показано, что при уменьшении коэффициента заполнения импульсов разрядного тока с 40 до...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 65, № 11. С. 31-37
Other Authors: Гренадеров, Александр Сергеевич, Захаров, Александр Николаевич, Оскирко, Владимир Олегович, Сиделев, Дмитрий Владимирович, Оскомов, Константин Владимирович, Соловьев, Андрей Александрович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000925011
LEADER 03676nab a2200373 c 4500
001 koha000925011
005 20241104202746.0
007 cr |
008 221205|2022 ru s c rus d
024 7 |a 10.17223/00213411/65/11/31  |2 doi 
035 |a koha000925011 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Энергетическое воздействие на подложку в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN  |c А. С. Гренадёров, А. Н. Захаров, В. О. Оскирко [и др.] 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 24 назв. 
506 |a Ограниченный доступ 
520 3 |a Получены зависимости плотности потока энергии на подложку и удельной энергии, сообщаемой покрытию, от коэффициента заполнения импульсов разрядного тока в процессе дуального магнетронного осаждения покрытий TiAlN. Показано, что при уменьшении коэффициента заполнения импульсов разрядного тока с 40 до 6% поток энергии на подложку увеличивается на 20–30% при неизменной средней мощности разряда. В совокупности со снижением скорости осаждения покрытий в режиме высокой импульсной мощности происходит шестикратное увеличение удельной энергии, которую получает покрытие в процессе роста. Таким образом, регулировку коэффициента заполнения импульсов разрядного тока можно рассматривать в качестве способа управления энергетическим воздействием на напыляемое покрытие, от которого зависят его структура и свойства. Показано, что покрытия TiAlN, полученные при низких значениях коэффициента заполнения импульсов разрядного тока и высоком уровне энергетического воздействия на подложку, обладают высокой твердостью и износостойкостью. 
653 |a дуальное магнетронное распыление 
653 |a потоки энергии 
653 |a экспериментальные исследования 
653 |a покрытия 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Гренадеров, Александр Сергеевич 
700 1 |a Захаров, Александр Николаевич 
700 1 |a Оскирко, Владимир Олегович 
700 1 |a Сиделев, Дмитрий Владимирович 
700 1 |a Оскомов, Константин Владимирович 
700 1 |a Соловьев, Андрей Александрович 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2022  |g Т. 65, № 11. С. 31-37  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000925011 
908 |a статья 
999 |c 925011  |d 925011