Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n<sup>+</sup>-p-p<sup>+</sup>(p<sup>+</sup>-n-n<sup>+</sup>)-типа учебно-методическое пособие

В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n<sup>+</sup>-p-p<sup>+</sup>(p<sup>+</sup>-n-n<sup>+</sup>)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика р...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Полисан, А.А
Other Authors: Астахов, В.П
Format: Book
Published: Москва МИСиС 2007
Subjects:
Online Access:ЭБС Консультант студента
Перейти в каталог НТБ ТГАСУ