Влияние состава и структуры интерфейсных слоев на адгезионные свойства границы раздела TiAl/Al2O3
Методом проекционных присоединенных волн в рамках теории функционала электронной плотности проведено систематическое изучение химической связи на границе раздела γ-TiAl/α-Al2O3(0001) c промежуточными металлическими, оксидными и нитридными слоями. Рассчитаны значения энергии адгезии на интерфейсах...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 66, № 9. С. 37-46 |
|---|---|
| Главный автор: | |
| Другие авторы: | , |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001009283 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| Итог: | Методом проекционных присоединенных волн в рамках теории функционала электронной плотности проведено систематическое изучение химической связи на границе раздела γ-TiAl/α-Al2O3(0001) c промежуточными металлическими, оксидными и нитридными слоями. Рассчитаны значения энергии адгезии на интерфейсах в зависимости от плоскости разрыва. Показано, что в случае металлических слоев адгезия существенно понижается на границе раздела TiAl/Me, однако остается высокой на интерфейсе Me/α-Al2O3(0001)O, что обусловлено ионным вкладом в механизм химической связи. Результаты расчетов указывают, что оксиды примесей состава Me2O5 и MeO3 существенно влияют на адгезию, причем разрушение будет иметь место в оксиде примеси. Напротив, адгезия на интерфейсе TiN/Al2O3 достигает высоких значений, однако на TiAl/TiN интерфейсе понижается до 5.65 Дж/м2. |
|---|---|
| Библиография: | Библиогр.: 36 назв. |
| ISSN: | 0021-3411 |
| Доступ: | Ограниченный доступ |