Электрофизические характеристики МДП-структур на основе варизонного HgCdTe МЛЭ с выращенным in situ CdTe в качестве диэлектрика

Исследованы вольт-фарадные характеристики МДП-структур на основе варизонного гетероэпитаксиального HgCdTe (x = 0,22–0,23 и 0,32–0,36) с выращенным in situ CdTe в качестве пассивирующего покрытия. Определены средние плотности поверхностных состояний, а также плотности подвижного и фиксированного заря...

Полное описание

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Известия высших учебных заведений. Физика Т. 53, № 2. С. 40-45
Другие авторы: Войцеховский, Александр Васильевич, Несмелов, Сергей Николаевич, Дзядух, Станислав Михайлович, Варавин, Василий Семенович, Дворецкий, Сергей Алексеевич, Михайлов, Николай Николаевич физик, Сидоров, Юрий Георгиевич, Васильев, Владимир Васильевич физик, Якушев, Максим Витальевич
Формат: Статья в журнале
Язык:Russian
Предметы:
Online-ссылка:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001130411
Описание
Итог:Исследованы вольт-фарадные характеристики МДП-структур на основе варизонного гетероэпитаксиального HgCdTe (x = 0,22–0,23 и 0,32–0,36) с выращенным in situ CdTe в качестве пассивирующего покрытия. Определены средние плотности поверхностных состояний, а также плотности подвижного и фиксированного зарядов для систем HgCdTe–CdTe, HgCdTe–CdTe–SiO2–Si3N4, HgCdTe–CdTe–ZnTe. Показано, что сформированный in situ CdTe образует достаточно качественную границу раздела, а использование дополнительных слоев SiO2–Si3N4 и ZnTe предоставляет возможности управления электрической прочностью и зарядами в диэлектрике.
Библиография:Библиогр.: 17 назв.
ISSN:0021-3411