Молекулярно-лучевая эпитаксия структур GaAs/Si(001) для высокоэффективных тандемных AIIIBV/Si-преобразователей солнечной энергии на активной кремниевой подложке

Для выращивания пленок GaAs с низкой плотностью прорастающих дефектов в представленной работе был использован метод низкотемпературной атомно-слоевой эпитаксии GaAs на начальной стадии формирования гетероперехода GaAs/Si. Было показано, что рост пленки GaAs может протекать, минуя стадию образования...

Full description

Bibliographic Details
Published in:Известия высших учебных заведений. Физика Т. 53, № 9. С. 26-33
Other Authors: Путято, Михаил Альбертович, Семягин, Борис Рэмович, Емельянов, Евгений Александрович, Паханов, Николай Андреевич, Преображенский, Валерий Владимирович
Format: Article
Language:Russian
Subjects:
Online Access:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001133294
LEADER 03552nab a2200349 c 4500
001 koha001133294
005 20240418102033.0
007 cr |
008 240412|2010 ru s c rus d
035 |a koha001133294 
040 |a RU-ToGU  |b rus  |c RU-ToGU 
245 1 0 |a Молекулярно-лучевая эпитаксия структур GaAs/Si(001) для высокоэффективных тандемных AIIIBV/Si-преобразователей солнечной энергии на активной кремниевой подложке  |c М. А. Путято, Б. Р. Семягин, Е. А. Емельянов [и др.] 
336 |a Текст 
337 |a электронный 
504 |a Библиогр.: 21 назв. 
520 3 |a Для выращивания пленок GaAs с низкой плотностью прорастающих дефектов в представленной работе был использован метод низкотемпературной атомно-слоевой эпитаксии GaAs на начальной стадии формирования гетероперехода GaAs/Si. Было показано, что рост пленки GaAs может протекать, минуя стадию образования островков, если первый монослой GaAs был сформирован методом атомно-слоевой эпитаксии при низкой температуре (200–350 °С). Был найден режим выращивания плёнок GaAs на Si с плотностью прорастающих дислокаций менее 106 см–2, что соответствует лучшим мировым достижениям. В этом режиме были выращены структуры GaAs/Si и Al0,2Ga0,8As/Si для преобразователей солнечной энергии, сформированы приборы и измерены их характеристики. Показано, что при выращивании гетероперехода GaAs/Si в приповерхностном слое кремния формируется p–n-переход. Это позволяет создавать высокоэффективные каскадные преобразователи солнечной энергии на основе соединений AIIIBV на активной подложке Si в едином ростовом цикле. 
653 |a атомно-слоевая эпитаксия 
653 |a гетеропереходы 
653 |a солнечная энергия 
653 |a преобразователи солнечной энергии 
653 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
655 4 |a статьи в журналах 
700 1 |a Путято, Михаил Альбертович 
700 1 |a Семягин, Борис Рэмович 
700 1 |a Емельянов, Евгений Александрович 
700 1 |a Паханов, Николай Андреевич 
700 1 |a Преображенский, Валерий Владимирович 
773 0 |t Известия высших учебных заведений. Физика  |d 2010  |g Т. 53, № 9. С. 26-33  |x 0021-3411  |w 0026-80960 
852 4 |a RU-ToGU 
856 4 |u http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001133294 
908 |a статья 
999 |c 1133294  |d 1133294