Температурные зависимости произведения дифференциального сопротивления на площадь в МДП-структурах на основе CdxHg1-xTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии на альтернативных подложках из Si и GaAs
В диапазоне температур 9-200 К экспериментально исследованы температурные зависимости дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии для МДП-структур на основе CdₓHg₁₋ₓTe (x = 0.22-0.40), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучено влияние...
| Опубликовано в: : | Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 2. С. 141-150 |
|---|---|
| Другие авторы: | , , , , , , , , |
| Формат: | Статья в журнале |
| Язык: | Russian |
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001141917 Перейти в каталог НБ ТГУ |
| Итог: | В диапазоне температур 9-200 К экспериментально исследованы температурные зависимости дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии для МДП-структур на основе CdₓHg₁₋ₓTe (x = 0.22-0.40), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучено влияние на величину произведения дифференциального сопротивления на площадь различных параметров структур: состава рабочего слоя, типа подложки, типа диэлектрического покрытия, наличия приповерхностного варизонного слоя. Показано, что значения произведения RОПЗA для МДП-структур на основе n-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), меньше, чем для структур на основе материала, выращенного на подложке из GaAs(013). Значения RОПЗA для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), сравнимы со значением аналогичного параметра для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из GaAs(013). |
|---|---|
| Библиография: | Библиогр.: 31 назв. |
| ISSN: | 0021-3411 |
