Пропуск в контексте
  • Язык
    • English
    • Русский

Расширенный поиск
  • Поиск
  • Моделирование поверхностной се...
  • Цитировать
  • Печать
  • Запись для экспорта
    • Экспорт в RefWorks
    • Экспорт в EndNoteWeb
    • Экспорт в EndNote
  • Permanent link
Моделирование поверхностной сегрегации Ge при молекулярно-пучковой эпитаксии твердых растворов Ge-Si

Моделирование поверхностной сегрегации Ge при молекулярно-пучковой эпитаксии твердых растворов Ge-Si

Библиографическая информация
Опубликовано в: :Физика твердого тела : сборник материалов XIX Российской студенческой конференции, посвященной 85-летию кафедры физики твердого тела физического факультета ТГУ (13-17 мая 2024 г.) С. 48-49
Главный автор: Ишков, Арман Дмитриевич
Формат: Статья в сборнике
Язык:Russian
Предметы:
кремний
германий
молекулярно-пучковая эпитаксия
сегрегация поверхностная
экспериментальные исследования
статьи в сборниках
Online-ссылка:http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001144968
  • Фонды
  • Описание
  • Похожие документы
  • Marc-запись

Internet

http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:001144968

Похожие документы

  • Модель поверхностной сегрегации примеси при легировании в системах молекулярно-лучевой эпитаксии
    по: Ишков, Арман Дмитриевич
  • Heterostructures with self-organized quantum dots of Ge on Si for optoelectronic devices
  • О накоплении примеси в адсорбционном слое в процессе легирования при молекулярно–лучевой эпитаксии
    по: Эрвье, Юрий Юрьевич
  • Surface structure of thin pseudomorphous GeSi layers
    по: Nikiforov, Alexander I.
  • Моделирование роста квантовых точек Ge на Si с учетом энергии образования дополнительных ребер и зависимости удельной поверхностной энергии от количества осажденного Ge
    по: Лозовой, Кирилл Александрович
|   Расширенный поиск   |   Советы для поиска   |

Большой университет Томска
https://university-tomsk.ru/
Загрузка...