Photoelectrical characteristics of metal-insulator-semiconductor structures based on graded-gap HgCdTe grown by molecular-beam epitaxy
Published in: | Thin solid films Vol. 551. P. 92-97 |
---|---|
Main Author: | Voytsekhovskiy, Alexander V. |
Corporate Authors: | Томский государственный университет Радиофизический факультет Кафедра квантовой электроники и фотоники, Томский государственный университет Сибирский физико-технический институт Научные подразделения СФТИ |
Other Authors: | Nesmelov, Sergey N., Dzyadukh, Stanislav M. |
Format: | Article |
Language: | English |
Subjects: | |
Online Access: | http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000469727 Перейти в каталог НБ ТГУ |
Similar Items
-
Capacitance-voltage characteristics of metal-insulator-semiconductor structures based on graded-gap HgCdTe with various insulators
by: Voytsekhovskiy, Alexander V. - Униполярные nBn-структуры и детекторы на основе HgCdTe
-
Электрофизические и фотоэлектрические характеристики МДП-структур на основе гетероэпитаксиального варизонного HgCdTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии, с различными диэлектриками диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук : 01.04.10
by: Дзядух, Станислав Михайлович
Published: (2010) - Nano‑size defect layers in arsenic‑implanted and annealed HgCdTe epitaxial films studied with transmission electron microscopy
-
Фотоэлектрические характеристики МДП-структур на основе МЛЭ HgCdTe в диапазоне температур 9-250 К
by: Войцеховский, Александр Васильевич